SAPHIR 520

SAPHIR 520

Plateau Ø 200 à 250mm

CARACTÉRISTIQUES :

Mode de pression : Centrale et individuelle
Pression centrale (1) : 20 à 400 N
Pression individuelle (2) : 5 à 100 N
Vitesse de rotation : 140 t/mn
Rotation des échantillons : 2 sens (sur écran)
Nombre d’échantillons : (1) de 5 à 12; (2) de 1 à 5
Contrôle des fonctions : Large écran LCD
Plateau : Ø 200 ou 250 mm
Vitesse variable : 50 à 600 t/mn
Arrosage : Par électrovanne

Product Description

Saphir 520 est une polisseuse automatique . De conception moderne toutes les fonctions sont accessibles par l’intermédiaire d’un large écran LCD. Le passage de la pression individuelle à la pression centrale est effectué en quelques secondes et sans outil.
Cet équipement est particulièrement bien adapté pour le pré polissage et le polissage des séries d’échantillons en métallographie.

Fonctionnement automatique :
Après avoir placé de 1 à 5 échantillons (pression individuelle), ou placé une platine (pression centrale), régler la pression pneumatique nécessaire, le temps de cycle, la vitesse de rotation du plateau. Le bouton marche de la polisseuse commande simultanément la polisseuse et la tête. Un signal sonore indique la fin du cycle. Les différents paramètres peuvent être mémorisés sous forme de programme. Il est alors possible de charger vos programmes habituels sans avoir à régler les paramètres.

VERSIONS :
SAPHIR 520: polisseuse automatique mono-plateau
SAPHIR 530: polisseuse automatique double plateau

ACCESSOIRES ET OPTIONS :
Plateaux de polisseuse
Platines porte-échantillons
Distributeur de suspensions et de lubrifiants

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